荷蘭政府表示，基於國家安全考慮，將擴大對光刻機生產商艾司摩爾（ASML）部分光刻工具的出口許可要求。涉及工具為艾司摩爾1970i及1980i深紫外光（DUV）浸入式光刻工具。

公司在聲明中表示，新規定明日起生效後，公司出口相關工具時，需要向荷蘭政府取得批准而非美國政府。公司相信，不會對今年或長期財務狀況展望帶來任何影響。

較早時有報道指，美國已告知包括荷蘭在內的盟友，如果企業繼續向中國提供先進的半導體技術，美國將考慮採取單邊行動。

在美國壓力下，荷蘭政府去年9月開始要求出口NXT:2000系列及更先進的DUV工具，必須獲得許可證。不過，去年10月起，美國單方面開始限制艾司摩爾1970i及1980i工具出口，理由是工具中含有美國部件。